N3D

Лаборатория компьютерных исследований

  • Увеличить размер шрифта
  • Размер шрифта по умолчанию
  • Уменьшить размер шрифта
Главная Статьи О наноструктурах Будут ли нанотехнологии 2020 года "соблюдать" Закон Мура?

Будут ли нанотехнологии 2020 года "соблюдать" Закон Мура?

E-mail Печать PDF
Рейтинг пользователей: / 1
ХудшийЛучший 

Реальность технологического процесса с нормами 22 нанометров, который, согласно Закону Мура, должен пойти в серию в 2011 году, действительно подтверждена экспериментальными исследованиями ряда компаний. В частности, компании IBM, с которой сотрудничают AMD и Freescale Semiconductor, уже удалось создать прототип чипа статической памяти (SRAM) с применением норм 22-нм техпроцесса. Подтверждают реальность 22-нм техпроцесса и в Intel, где для выпуска чипов с такими нормами намерены использовать те же 193-нм инструменты в сочетании с иммерсионной литографией и техникой двойной экспозиции. О создании прототипа 28-нм статической памяти с шириной затвора 24 нм также объявила тайваньская компания TSMC.

Процесс иммерсионной литографии – есть литография с применением специальной жидкости между оптикой и экспонируемой пластиной, позволяющей продолжить использование 193 нм излучения.

Ради дальнейшего использования кремниевых полупроводников для производства чипов в настоящее время ведутся поиски альтернативных инструментов для экспозиции фотомасок. Так, в лабораториях ряда компаний уже на протяжении нескольких лет проходят испытания установки с лазерами так называемого сверхглубокого ультрафиолета (EUV, Extreme Ultraviolet), с длиной волны порядка 13 нм. Это излучение уже гораздо ближе к рентгену нежели к свету в традиционном понимании, однако тут дело уже не в названиях и определениях, заработало бы.

К сожалению, с развитием EUV литографии дела обстоят не так радужно, как прогнозировалось несколько лет назад, на заре освоения этой технологии. До сих пор не разработаны достаточно мощные источники излучения - для промышленного производства необходима мощность порядка 50-100 Вт, стабильными пока получаются установки мощностью 10-20 Вт. До конца не определены материалы, подходящие в качестве "светочувствительных" фоторезистов. Список проблем можно продолжать, но факт остаётся фактом: технология EUV литографии по-прежнему далека от коммерциализации.

В настоящее время также обсуждается ряд других технологических приёмов для так называемой "литографии следующего поколения" (Next Generation Lithography, NGL), включая безмасочную литографию, нанопечать и улучшенную двухпроходную экспозицию. Однако всё это лишь отсрочит, но не отменит смерть полупроводникового кремния.

Теперь давайте взглянем на шкалу развития технологий выпуска кремниевых полупроводников на ближайшее обозримое будущее.

В лабораторных условиях с помощью оптической литографии учёным ещё в 2003 году удалось получить экспериментальный транзистор с шириной затвора 10 нм. Таким образом можно предполагать, что возможностей кремниевых полупроводников теоретически хватит ещё как минимум на два этапа эволюции технологии. Максимум на три. То есть, до 2015, от силы – до 2017 года.

А что же дальше?

А дальше наступит физический предел даже для "идеального" транзистора, функционирующего в совершенно идеальных условиях. Ибо при таких масштабах приходится оперировать с габаритами отдельных атомов и где классические приёмы уже не дают никакой гарантии стабильной работы, тем более в масштабе миллиардов электронных ключей чипа.

Итак, конец кремниевой эры полупроводниковой промышленности уже не за горами. Однако это совершенно не означает смерть самой полупроводниковой промышленности.

Сейчас учёные всего мира изучают различные свойства веществ с целью поиска достойной замены кремниевым полупроводникам. К таким свойствам можно отнести массу, заряд, спин различных веществ, их волновые и магнитные свойства.

Наконец, появление новых классов нановеществ с замечательными уникальными свойствами также сулит в ближайшем будущем много интересных открытий и находок, часть из которых, вполне возможно, удастся воплотить в массовое производство электроники нового поколения.

 Источник: http://www.3dnews.ru/editorial/it_beyond_si/

Обновлено 12.04.2010 23:13  

Вход

JoomlaWatch Stats 1.2.7 by Matej Koval

Countries

67.5%UNITED STATES UNITED STATES
12.5%RUSSIAN FEDERATION RUSSIAN FEDERATION
5%CANADA CANADA
5%AUSTRIA AUSTRIA
2.5%UNITED KINGDOM UNITED KINGDOM
2.5%TURKMENISTAN TURKMENISTAN
2.5%ISRAEL ISRAEL
2.5%TURKEY TURKEY

Visitors

Last week: 1
This month: 1
Last month: 1
Total: 95